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內分泌物在膠束中的增溶作用——結論、致謝!
來源:Kibron 瀏覽 1888 次 發布時間:2021-09-22
結論
粉色视频网站通過界麵張力、熒光各向異性、動態光散射和循環伏安法在 hp-β-CD 存在下研究了 EDCs(如 NP 和 β-E2)與 HTA+ 膠束和 HTA+ 單層在電極表麵形成的相互作用。 Hp-β-CD 可用於使用水中溶解度較低的化學物質(如這些 EDC)的實驗。 EDCs 在膠束中的溶解增加了膠束表麵的剛度和流體動力學半徑,但不會改變膠束中的極性環境。 在低 HTA+ 濃度下,HTA+ 可防止 I2 吸附在電極表麵。 在電極表麵形成的 HTA+ 單分子層吸附其中的 I2。 然而,在 HTA+ 膠束的存在下,I2 溶解在膠束中。 I2/I− 的循環伏安法是研究表麵活性劑在固溶體界麵吸附條件的非常有用的工具。 NP 與 HTA+ 具有更相似的結構,更有效地降低了 cmc。
致謝
粉色视频网站感謝 H. Tsukube 教授和 T. Nagasaki 教授(日本大阪城市大學)在穩態熒光、熒光各向異性和動態光散射測量方麵提供的幫助。 PS 感謝 R. Tanaka 博士(日本大阪市立大學)以及日本科學促進會 (JSPS) 的博士後獎學金。
參考
References 1. Davis DL, Bradlow HL, Wolff M, Woodruff T, Hoel DG, Anton- Culver H (1993) Environ Health Perspect 101:372
2. Colborn T, vom Saal FS, Soto AM (1993) Environ Health Perspect 101:378
3. Colborn T (1995) Environ Health Perspect 103(Suppl 7):135
4. Harrison PTC, Holmes P, Humfrey CDN (1997) Sci Total Environ 205:97
5. Kuramitz H, Natsui J, Sugawara K, Itoh S, Tanaka S (2002) Anal Chem 74:533
6. Kosaka O, Sehgal P, Doe H (2005) J Surfactants Deterg 8:347
7. Kosaka O, Sehgal P, Doe H (2008) Food Hydrocoll 22:144 DOI 10.1016/j.foodhyd.2007.01.024
8. Brix R, Hvidt S, Carlsen L (2001) Chemosphere 44:759
9. Song W, Li A, Xu X (2003) Ind Eng Chem 42:949
10. Maiti NC, Krishna MMG, Britto PJ, Periasamy N (1997) J Phys Chem B 101:11051
11. Otzen DE, Oliveberg M (2001) J Mol Biol 313:479
12. Menger FM, Galloway AL, Chlebowski ME (2005) Langmuir 21:9010
13. Hassan PA, Yakhmi JV (2000) Langmuir 16:7187
14. Chiang H, Lukton A (1975) J Phys Chem 79:1935
15. Tamura K, Nii N (1989) J Phys Chem 93:4825
16. Delacruz JL, Blanchard GJ (2003) J Phys Chem B 107:7102
17. Marchetti S, Onori G (2005) J Phys Chem B 109:3676
18. Wang Y, Mendoza S, Kaifer AE (1998) Inorg Chem 37:317
19. Osteryoung RA, Anson FC (1964) Anal Chem 36:975